??一、 核心概念:什么是zeta電位???
要深入理解zeta電位儀,必須首先掌握其測量對象——??zeta電位(ζ-電位)??。
1.界面現(xiàn)象??:當(dāng)固體顆粒分散在液體中時,由于其表面的離子化或?qū)θ芤褐须x子的吸附,顆粒表面會帶上凈電荷。
2.??雙電層理論??:為了維持電中性,帶電的顆粒會吸引周圍液體中帶相反電荷的離子(反離子),從而在顆粒/液體界面處形成一個結(jié)構(gòu)復(fù)雜的區(qū)域,稱為??雙電層??。該結(jié)構(gòu)包括:
•內(nèi)層(Stern層)??:緊貼顆粒表面的、被強(qiáng)烈吸附的、基本不動的離子層。
•??外層(擴(kuò)散層)??:從Stern層向外延伸,由于熱運(yùn)動而呈擴(kuò)散分布的離子層。
3.剪切面??:當(dāng)顆粒在液體中運(yùn)動時,會有一個界面,界面內(nèi)的離子和液體分子是隨顆粒一起運(yùn)動的,而界面外的則是自由的。這個假想的界面稱為剪切面。
4.定義??:??zeta電位是剪切面上的電勢??。它不等于顆粒表面的電勢,但它是表征雙電層特性的、可通過實(shí)驗(yàn)測量的、接近表面的電勢值。
zeta電位的物理意義與穩(wěn)定性判斷??:
zeta電位值反映了顆粒間靜電排斥力的強(qiáng)弱。其絕對值越大,表明顆粒間排斥力越強(qiáng),越能克服范德華引力等吸引力,從而??分散體系越穩(wěn)定??,不易發(fā)生團(tuán)聚或沉降。反之,絕對值越小,體系越不穩(wěn)定。
•??高穩(wěn)定性??:通常 |ζ| > ±30 mV
•??中等穩(wěn)定性??:大約在 ±20 mV 到 ±30 mV 之間
•快速團(tuán)聚/不穩(wěn)定??:大約在 ±5 mV 到 ±20 mV 之間,在 ??等電點(diǎn)時最不穩(wěn)定。
??二、 測量原理:電泳光散射技術(shù)??
現(xiàn)代zeta電位儀絕大多數(shù)采用??電泳光散射技術(shù)。該技術(shù)是??激光多普勒效應(yīng)??和??顯微電泳??技術(shù)的結(jié)合。
??測量過程分解:??
1.??施加電場??:
•將樣品注入一個帶有電極的專用樣品池(如一次性毛細(xì)管樣品池)。
•對電極施加一個穩(wěn)定的交流或直流電場。帶電顆粒會在電場作用下發(fā)生定向移動,正電顆粒移向負(fù)極,負(fù)電顆粒移向正極。這種運(yùn)動稱為??電泳。
2.??測量電泳速度(遷移率)??:
•一束單色、相干的激光(如He-Ne激光器)照射在樣品上。
•移動的顆粒會對散射光產(chǎn)生??多普勒頻移??:朝向檢測器運(yùn)動的顆粒散射光頻率增加,背向檢測器運(yùn)動的顆粒散射光頻率降低。
•儀器通過干涉測量技術(shù),精確檢測這種極其微小的頻率變化(或相位變化),從而計算出顆粒的??電泳遷移率??。遷移率定義為:μE = v / E,其中 v是顆粒速度,E是電場強(qiáng)度。
3.計算zeta電位??:
•獲得電泳遷移率 μE后,根據(jù)經(jīng)典的電磁學(xué)理論模型,將其轉(zhuǎn)換為zeta電位 ζ。常用的轉(zhuǎn)換模型是??Smoluchowski近似??(適用于高離子強(qiáng)度、任意形狀顆粒)和??Hückel近似??(適用于低離子強(qiáng)度、球形小顆粒)。
•公式(Smoluchowski): ζ = (μE * η) / (ε * ε0)
•η是溶劑的粘度
•ε是溶劑的介電常數(shù)
•ε0是真空介電常數(shù)
??進(jìn)階技術(shù):相位分析光散射(PALS)??
為了克服傳統(tǒng)激光多普勒技術(shù)在測量高電導(dǎo)率樣品或低遷移率樣品時的信噪比問題,現(xiàn)代儀器普遍采用??相位分析光散射技術(shù)。PALS通過直接分析散射光的相位變化而非頻率變化來測量顆粒速度,其靈敏度比傳統(tǒng)方法高出幾個數(shù)量級,結(jié)果更精確、更可靠。
??三、 儀器核心組件??
1.激光光源??:提供高強(qiáng)度、單波長、穩(wěn)定的激光束。
2.樣品池??:
•??標(biāo)準(zhǔn)折疊毛細(xì)管池??:電極集成在池壁上,適用于大多數(shù)水相和有機(jī)相樣品。
•Universal Dip Cell??:可浸入式電極,適用于特殊樣品或清洗困難的場景。
3.??檢測器??:高性能的光電檢測器,如??光電倍增管(PMT)?? 或??雪崩光電二極管(APD)??,用于捕獲極其微弱的光信號。
4.??溫控系統(tǒng)??:高精度的帕爾貼溫控系統(tǒng)至關(guān)重要,因?yàn)闇囟戎苯佑绊懭軇┑恼扯?η)和介電常數(shù)(ε),從而顯著影響計算結(jié)果。溫控精度通常需達(dá)到±0.1°C。
5.信號處理器與計算機(jī)系統(tǒng)??:強(qiáng)大的處理器和專業(yè)的軟件用于控制實(shí)驗(yàn)、采集數(shù)據(jù)、進(jìn)行相關(guān)運(yùn)算(通過相關(guān)函數(shù)提取頻率/相位信息),并最終輸出zeta電位值、分布圖和各種報告。
??四、 樣品制備與要求??
準(zhǔn)確的測量依賴于正確的樣品制備:
•??濃度??:需要優(yōu)化。太濃會導(dǎo)致多重散射,光信號失真;太稀則信號太弱。通常需要使激光在樣品中的衰減系數(shù)處于合理范圍。
•分散介質(zhì)??:樣品必須分散在具有??明確粘度和介電常數(shù)??的液體中。未知物性的液體無法計算zeta電位。
•離子強(qiáng)度與pH??:溶液的離子強(qiáng)度和pH值對zeta電位有巨大影響。必須在報告結(jié)果時注明測量條件。許多儀器配備??自動滴定儀??附件,用于自動測量zeta電位隨pH或添加劑濃度的變化曲線,從而確定??等電點(diǎn)(IEP)??。
•??清潔度??:樣品池和樣品必須非常潔凈,任何灰塵或氣泡都會嚴(yán)重干擾測量結(jié)果。
??五、 主要應(yīng)用領(lǐng)域??
1.藥物遞送與生物醫(yī)藥??:優(yōu)化脂質(zhì)體、納米粒、蛋白質(zhì)制劑、病毒載體的穩(wěn)定性,研究細(xì)胞膜表面電荷。
2.納米材料??:指導(dǎo)納米顆粒(金屬、氧化物、量子點(diǎn)等)的合成與表面修飾,防止團(tuán)聚,保證其納米特性。
3.工業(yè)產(chǎn)品??:
涂料/油墨??:確保顏料分散穩(wěn)定,防止沉降。
陶瓷??:控制漿料的流變性和穩(wěn)定性。
食品??:保持乳液(牛奶、蛋黃醬)、飲料的穩(wěn)定性。
化妝品??:優(yōu)化乳霜、乳液、防曬產(chǎn)品的配方。
4.水處理與環(huán)境科學(xué)??:通過調(diào)節(jié)zeta電位至零點(diǎn),實(shí)現(xiàn)絮凝和懸浮物的高效去除。
5.MEMS/CMP??:在半導(dǎo)體工業(yè)中,控制拋光漿料的穩(wěn)定性以防止劃傷晶圓。